遼寧EVG620 NT光刻機

來源: 發布時間:2020-07-31

EVG ® 6200 NT掩模對準系統(半自動/自動)

特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

技術數據:EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,可在最小的占位面積上提供最/先進的掩模對準技術,并具有最/高的產能,先進的對準功能和優化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動或自動配置,并配有集成的振動隔離功能,可在廣/泛的應用中實現出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導體)的加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。 只有接近客戶,才能得知客戶最真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯系的原因之一。遼寧EVG620 NT光刻機

我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。

我們的掩模對準系統設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統均支持原位對準驗證軟件,以提高手動操作系統的對準精度和可重復性。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理,實現現場升級。此外,所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備,請訪問我們的官網,或者直接聯系我們。 甘肅EVG610光刻機我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統

特色:EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優化的用于晶片尺寸高達200毫米。

技術數據:IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,可滿足將生產線中的掩模污染降至最/低并增加掩模壽命和產品良率的需求。除了多種對準功能外,該系統還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現場驗證,可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標準的頂側或底側對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應用領域,尤其是在與工程或粘合基板對準時。該系統還通過快速響應的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制。

EVG也提供量產型掩模對準系統。對于在微米范圍內的光刻圖形,掩模對準器是最/具成本效益的技術,與其他解決方案相比,每層可節省30%以上的成本,這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統旨在以最/佳的成本效率與最/高的技術標準相結合,并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持。最重要的是,大焦深曝光光學系統完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內,我們為許多客戶提供了量產型的光刻機系統,得到了他們的無數好評。EVG101光刻膠處理機可支持最/大300 mm的晶圓。

EVG ® 150光刻膠處理系統分配選項:

各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)

恒壓分配系統/注射器分配系統

電阻分配泵具有流量監控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項

預對準:光學/機械

ID讀取器:條形碼,字母數字,數據矩陣


系統控制:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業/實時遠程訪問,診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR HERCULES以最小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統的所有優勢。中國澳門光刻機推薦廠家

EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,能夠實現現場升級。遼寧EVG620 NT光刻機

EVG鍵合機掩模對準系列產品,使用最/先進的工程技術。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數決定。亞微米對準精度,掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經明確定義且易于控制的曝光光譜是最重要的標準。此外,整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產品組合時需要考慮的其他關鍵參數。創新推動了我們的日常業務的發展和提升我們的理念,使我們能夠跳出思維框架,創造更先進的系統。 遼寧EVG620 NT光刻機

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