貴州納米壓印芯片堆疊應用

來源: 發布時間:2020-12-11

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個獨立控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個獨立控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。貴州納米壓印芯片堆疊應用

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創新。例如,SmartNIL提供了無與倫比的全區域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的最重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫學診斷設備的生產。此外,SmartNIL的最 新發展為制造具有最 高功能,最小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。


特征:

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術

經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小

大面積全場壓印

總擁有成本最 低

在地形上留下印記

對準能力

室溫過程

開放式材料平臺 官方納米壓印技術支持最小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保最 低的缺 陷率和最 高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在全 面積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產最小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可最 大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間最快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板

UV納米壓印光刻系統

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持最 新的UV-LED技術

■最小化系統占地面積和設施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


EVG的SmartNIL技術是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術。

納米壓印應用三:連續性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從最 大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


EVG?770可用于連續重復的納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作。福建納米壓印研發生產

EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸最 大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。貴州納米壓印芯片堆疊應用

EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,從碎片到最 大150毫米。

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。


貴州納米壓印芯片堆疊應用

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