微觀應變分析XRD衍射儀

所有維度都非常好的數據質量不論在何種應用場合，它都是您的可選的探測器：高的計數率、動態范圍和能量分辨率，峰位精度布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976c）整個角度范圍內的準直保證，面向未來的多用途采用了開放式設計并具有不受約束的模塊化特性的同時，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設計，布魯克獲得的TWIN-TWIN光路設計極大地簡化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統可在4種不同的光束幾何之間進行自動切換。該系統無需人工干預，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進行切換，且無需人工干預，是在環境下和非環境下對包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內的所有類型的樣品進行分析的理想選擇。這種X射線源可提供高亮度光束，對mm大小的樣品研究，或使用μm大小光束進行微區X射線衍射研究的理想選擇。微觀應變分析XRD衍射儀

D8ADVANCEPlus是D8ADVANCE的又一版本，是面向多用途、多用戶實驗室的X射線平臺。它可理想地滿足您對所有樣品類型的需求，包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）：典型的X射線粉末衍射（XRD）對分布函數（PDF）分析小角X射線散射（SAXS）和廣角X射線散射（WAXS）X射線反射率（XRR)和高分辨XRD（搖擺曲線，倒易空間掃描）環境條件下和非環境條件下該系統的一大優勢在于它能夠在多達6種不同的光束幾何之間進行切換：從用于粉末的Bragg-Brentano聚焦幾何到用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何以及兩者之間的切換。您只需按下按鈕，整個軟件盡在掌握。廣東物相定量分析XRD衍射儀檢測MONTEL光學器件可優化光束形狀和發散度，與布魯克大量組件、光學器件和探測器完全兼容。

D8DISCOVER特點：微焦源IμS配備了MONTEL光學器件的IμS微焦源可提供小X射線束，非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.綠色環保設計：低功耗、無耗水、使用壽命延長3.MONTEL光學器件可優化光束形狀和發散度4.與布魯克大量組件、光學器件和探測器完全兼容。5.提供各種技術前列的全集成X射線源，用于產生X射線。6.工業級金屬陶瓷密封管，可實現線焦斑或點焦斑。7.專業的TWIST-TUBE（旋轉光管）技術，可快速簡便地切換線焦斑和點焦斑。8.微焦斑X射線源（IμS）可提高極小焦斑面積上的X射線通量，而功耗卻很低。9.TURBOX射線源（TXS）旋轉陽極可為線焦斑、點焦斑和微焦斑等應用提供比較高X射線通量。10.性液態金屬靶METALJET技術，可提供無出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源（TXS-HE）可為點焦斑和線焦斑應用提供比較高X射線通量，適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結合指定使用X射線光學元件，可高效捕獲X射線，并將之轉化為針對您的應用而優化的X射線束。

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節點技術的發展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術節點的a20范圍內。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。無論面對何種應用，DIFFRAC.DAVINCI都會指引用戶選擇較好的儀器配置。

LYNXEYEXE-T具有優于380eV的能量分辨率，著實出色，是市面上性能的熒光過濾器探測器系統。借助它，您可在零強度損失下對由銅輻射激發的鐵熒光進行100％過濾，而且無需金屬濾波片，因此數據也不會存在偽影，如殘余K?和吸收邊。同樣，也無需用到會消除強度的二級單色器。布魯克提供獨有的LYNXEYEXE-T探測器保證：交貨時保證無壞道！LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產品。它是目前市面上一款可采集0D、1D和2D數據的能量色散探測器，適用于所有波長（從Cr到Ag），具有準確的計數率和角分辨率，是所有X射線衍射和散射應用的理想選擇。LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數據采集，具有始終有效的出色能量鑒別能力，同時不會損失二級單色器信號。上海微觀應變分析XRD衍射儀推薦咨詢

UMC樣品臺通常用于分析大塊樣品、掃描測量應用和涂層分析，也能測量多個小樣品或用于執行非環境實驗。微觀應變分析XRD衍射儀

對于需要探索材料極限的工業金屬樣品，通常需要進行殘余應力和織構測量。通過消除樣品表面的拉應力或引起壓應力，可延長其功能壽命。這可通過熱處理或噴丸處理等物理工藝來完成。構成塊狀樣品的微晶的取向，決定了裂紋的生長方式。而通過在材料中形成特定的織構，可顯著增強其特性。這兩種技術在優化制造法（例如增材制造）領域也占有一席之地。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。微觀應變分析XRD衍射儀