企業商機-納糯三維科技(上海)有限公司
  • 山東2PP增材制造PPGT2
    山東2PP增材制造PPGT2

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層...

    2024-03-08
  • 湖南飛秒激光雙光子聚合三維光刻
    湖南飛秒激光雙光子聚合三維光刻

    由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

    2024-03-08
  • 河南德國無掩膜光刻技術3D打印
    河南德國無掩膜光刻技術3D打印

    Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推...

    2024-03-07
  • 天津進口無掩膜光刻微納光刻
    天津進口無掩膜光刻微納光刻

    德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發商,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線,其晶圓處...

    2024-03-07
  • 廣東雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻
    廣東雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻

    Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。Nanoscribe的Photonic...

    2024-03-06
  • 湖北高分辨率無掩膜光刻
    湖北高分辨率無掩膜光刻

    Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術...

    2024-03-05
  • 德國雙光子無掩膜光刻微納光刻
    德國雙光子無掩膜光刻微納光刻

    科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新...

    2024-03-05
  • 湖北2PP無掩膜光刻激光直寫
    湖北2PP無掩膜光刻激光直寫

    全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂...

    2024-03-04
  • 浙江2GL無掩膜光刻三維光刻
    浙江2GL無掩膜光刻三維光刻

    Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術...

    2024-03-04
  • 天津超高速無掩膜光刻三維微納米加工系統
    天津超高速無掩膜光刻三維微納米加工系統

    Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是...

    2024-03-03
  • 湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D光刻
    湖南雙光子聚合無掩膜光刻3D光刻

    由于在紅外區域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現具有高精度形狀精度的創新微光學設計...

    2024-03-02
  • 遼寧雙光子無掩膜光刻PPGT
    遼寧雙光子無掩膜光刻PPGT

    Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術...

    2024-03-02
  • 德國Nanoscribe無掩膜光刻技術
    德國Nanoscribe無掩膜光刻技術

    Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠...

    2024-03-02
  • 德國高精度無掩膜光刻微納光刻
    德國高精度無掩膜光刻微納光刻

    Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推...

    2024-03-01
  • 重慶2PP無掩膜光刻3D微納加工
    重慶2PP無掩膜光刻3D微納加工

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解...

    2024-03-01
  • 湖北微納米無掩膜光刻3D光刻
    湖北微納米無掩膜光刻3D光刻

    科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新...

    2024-03-01
  • 無掩膜光刻無掩膜激光直寫
    無掩膜光刻無掩膜激光直寫

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...

    2024-03-01
  • 浙江德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫
    浙江德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫

    QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...

    2024-03-01
  • 重慶高精度無掩膜光刻激光直寫
    重慶高精度無掩膜光刻激光直寫

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。...

    2024-02-29
  • 德國高精度無掩膜光刻系統
    德國高精度無掩膜光刻系統

    Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是...

    2024-02-29
  • 遼寧2PP無掩膜光刻PPGT
    遼寧2PP無掩膜光刻PPGT

    由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

    2024-02-29
  • 上海無掩膜光刻無掩光刻
    上海無掩膜光刻無掩光刻

    借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術...

    2024-02-29
  • 湖北Nanoscribe無掩膜光刻工藝
    湖北Nanoscribe無掩膜光刻工藝

    作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業...

    2024-02-29
  • 上海高精度無掩膜光刻技術3D打印
    上海高精度無掩膜光刻技術3D打印

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...

    2024-02-28
  • 德國無掩膜光刻技術
    德國無掩膜光刻技術

    集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數據通訊,激光雷達系統的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接...

    2024-02-28
  • 湖南高精度無掩膜光刻系統
    湖南高精度無掩膜光刻系統

    Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫學設備的原型制作。Nanoscribe的Photonic...

    2024-02-28
  • 湖北雙光子無掩膜光刻技術
    湖北雙光子無掩膜光刻技術

    Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5...

    2024-02-28
  • Nanoscribe無掩膜光刻3D光刻
    Nanoscribe無掩膜光刻3D光刻

    Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是...

    2024-02-28
  • 重慶德國無掩膜光刻3D打印
    重慶德國無掩膜光刻3D打印

    高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創新設計。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,...

    2024-02-27
  • 河南無掩膜光刻微納加工系統
    河南無掩膜光刻微納加工系統

    Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直...

    2024-02-27
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