吉田半導體納米壓印光刻膠 JT-2000：國產技術突破耐高溫極限 自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫，為國產納米器件制造提供關鍵材料。吉田半導體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產交聯(lián)樹脂，在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產品采用國產原材料與全自動化工藝，其高粘接強度與耐強酸強堿特性，適用于光學元件、傳感器等精密器件。產品已通過國內科研機構驗證，應用于國產 EUV 光刻機前道工藝，幫助客戶實現(xiàn)納米結構加工自主化。 LCD 光刻膠供應商哪家好？吉田半導體高分辨率 + 低 VOC 配方！深圳紫外光刻膠生產廠家 依托自主研發(fā)與國產供應鏈，吉田...

半導體集成電路 ? 應用場景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細結構； ? 封裝工藝：負性膠用于凸點（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐電鍍溶液腐蝕。 ? 關鍵要求：高分辨率、低缺陷率、耐極端工藝（如150℃以上高溫、等離子體轟擊）。 印刷電路板（PCB） ? 應用場景： ? 線路成像：負性膠（如環(huán)化橡膠膠）用于雙面板/多層板外層線路，線寬≥50μm，耐堿性蝕刻液（如氯化銅）； ? 阻焊層：...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導體器件制造。 其他光刻膠 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應用場景。 吉田半導體...

對比國際巨頭的差異化競爭力 維度 吉田光刻膠 國際巨頭（如JSR、東京應化） 技術定位 聚焦細分市場（如納米壓印、LCD） 主導高級半導體光刻膠（ArF、EUV） 成本優(yōu)勢 原材料自主化率超80%，成本低20% 依賴進口原材料，成本高 客戶響應 48小時內提供定制化解決方案 認證周期長（2-3年） 區(qū)域市場 東南亞、北美市占率超15% 全球市占率超60% 風險與挑戰(zhàn) 前段技術瓶頸：ArF、EUV光刻膠仍依賴進口，研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10。 客戶認證周期：半導體光刻膠需2-...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術資料。適用于厚板的光刻加工，在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領域。 水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學儀器、太陽能電池等領域的光刻工藝。品質保障、性能穩(wěn)定的特點，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。 吉田半導體全流程解決方案，賦能客戶提升生產效率。河南激光光刻膠生產廠家 作為深耕半導體材料領...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產品已通過中芯國際量產驗證，良率達 98% 以上，生產過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求，為國產芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。 厚板光刻膠 JT-3001，抗深蝕刻，PCB 電路板制造Preferred！陜西高溫光刻...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產品已通過中芯國際量產驗證，良率達 98% 以上，生產過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求，為國產芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。 政策支持：500億加碼產業(yè)鏈。安徽阻焊油墨光刻膠廠家 國家戰(zhàn)略支持 《國家集成...

客戶需求導向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。 快速交付與售后支持 作為國內廠商，吉田半導體依托松山湖產業(yè)集群資源，交貨周期較進口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術響應，降低客戶供應鏈風險。 性價比優(yōu)勢 國產光刻膠價格普遍低于進口產品 30%-50%，吉田半導體通過規(guī)模化生產和供應鏈優(yōu)化進一步壓縮成本，同時保持性能對標國際品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產替代需求。 政策與市場機遇 受益于國內半導體產業(yè)鏈自主化趨勢，吉田半導體作為 “專精特...

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富產品線。在焊接材料方面，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產品，滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時，感光膠系列產品分為水性與油性兩類，兼具耐潮性與易操作性，廣泛應用于印刷電路板制造。 公司產品遠銷全球，并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關系。通過在重點區(qū)域設立辦事處，提供快速響應的技術支持與售后服務。依托東莞 “世界工廠” 的產業(yè)資源，公司強化供應鏈協(xié)同，縮短交付周期，為客戶提供高效解決方案。 未來，廣東吉田半導體材料有限公司將繼續(xù)深化技術創(chuàng)新，拓展產品...

感光機制 ? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。 ? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調配，感光度高（曝光時間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。 ? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達2μm，符合歐盟REACH標準。 功能細分 ? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用...

對比國際巨頭的差異化競爭力 維度 吉田光刻膠 國際巨頭（如JSR、東京應化） 技術定位 聚焦細分市場（如納米壓印、LCD） 主導高級半導體光刻膠（ArF、EUV） 成本優(yōu)勢 原材料自主化率超80%，成本低20% 依賴進口原材料，成本高 客戶響應 48小時內提供定制化解決方案 認證周期長（2-3年） 區(qū)域市場 東南亞、北美市占率超15% 全球市占率超60% 風險與挑戰(zhàn) 前段技術瓶頸：ArF、EUV光刻膠仍依賴進口，研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10。 客戶認證周期：半導體光刻膠需2-...

技術挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢 更高分辨率需求： ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問題（目標＜5nm），通過納米顆粒分散技術或新型聚合物設計改善。 缺陷控制： ? 半導體級正性膠要求金屬離子含量＜1ppb，顆粒（＞50nm）＜1個/mL，需優(yōu)化提純工藝（如多級過濾+真空蒸餾）。 國產化突破： ? 國內企業(yè)（如上海新陽、南大光電、容大感光）已在KrF/ArF膠實現(xiàn)批量供貨，但EUV膠仍被日本JSR、美國陶氏、德國默克壟斷，需突破樹脂合成、PAG純度等瓶頸。 ...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費用約2億元，而國際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國內企業(yè)如彤程新材2024年半導體光刻膠業(yè)務營收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長期技術攻關。 2. 價格競爭的“雙重擠壓” 國內PCB光刻膠價格較國際低30%，但半導體光刻膠因性能差距，價格為進口產品的70%，而成本卻高出20%。例如，國產ArF光刻膠售價約150萬元/噸，而日本同類產品為120萬元/噸，且性能更優(yōu)。 突破路徑與未來展望 原材料國產化攻堅：聚焦樹脂單體合成、光酸純化等關鍵環(huán)節(jié)，推動八億時空、...

吉田半導體獲評 "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術標準，以技術創(chuàng)新與標準化生產為，吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號，樹立行業(yè)。 憑借在光刻膠領域的表現(xiàn)，吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術規(guī)范》等行業(yè)標準，推動國產材料標準化進程。未來，吉田半導體將繼續(xù)以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景，深化技術研發(fā)與市場拓展，為全球半導體產業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。政策支持：500億加碼產業(yè)鏈。云南網(wǎng)版光刻膠感光膠 技術突破與產業(yè)重構的臨界點 光刻膠技術的加速突破正在推動芯片制造行業(yè)進入“材料定...

技術研發(fā)：從配方到工藝的經(jīng)驗壁壘 配方設計的“黑箱效應” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合，需通過數(shù)萬次實驗優(yōu)化。例如，ArF光刻膠需在193nm波長下實現(xiàn)0.1μm分辨率，其光酸產率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機性能。日本企業(yè)通過數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫，國內企業(yè)短期內難以突破。 工藝控制的極限挑戰(zhàn) 光刻膠生產需在百級超凈車間進行，金屬離子含量需控制在1ppb以下。國內企業(yè)在“吸附—重結晶—過濾—干燥”耦合工藝上存在技術短板，導致產品批次一致性差。例如，恒坤新材的KrF光刻膠雖通過12英寸產線驗證，但量產良率較日本同類...

光刻膠（Photoresist）是一種對光敏感的高分子材料，主要用于光刻工藝中，通過光化學反應實現(xiàn)圖案的轉移，是半導體、集成電路（IC）、印刷電路板（PCB）、液晶顯示（LCD）等制造領域的材料之一。 光刻膠特性與組成 ? 光敏性：在特定波長（如紫外光、極紫外光EUV等）照射下，會發(fā)生化學結構變化（如交聯(lián)或分解），從而改變在顯影液中的溶解性。 ? 主要成分： ? 樹脂（成膜劑）：形成基礎膜層，決定光刻膠的機械和化學性能。 ? 光敏劑：吸收光能并引發(fā)化學反應（如光分解、光交聯(lián)）。 ...

技術驗證周期長 半導體光刻膠的客戶驗證周期通常為2-3年，需經(jīng)歷PRS（性能測試）、STR（小試）、MSTR（批量驗證）等階段。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證，預計2025年才能進入穩(wěn)定供貨階段。 原材料依賴仍存 樹脂和光酸仍依賴進口，如KrF光刻膠樹脂的單體國產化率不足10%。國內企業(yè)需在“吸附—重結晶—過濾—干燥”耦合工藝等關鍵技術上持續(xù)突破。 未來技術路線 ? 金屬氧化物基光刻膠：氧化鋅、氧化錫等材料在EUV光刻中展現(xiàn)出更高分辨率和穩(wěn)定性，清華大學團隊已實現(xiàn)5nm線寬的原型驗證。 ...

對比國際巨頭的差異化競爭力 維度 吉田光刻膠 國際巨頭（如JSR、東京應化） 技術定位 聚焦細分市場（如納米壓印、LCD） 主導高級半導體光刻膠（ArF、EUV） 成本優(yōu)勢 原材料自主化率超80%，成本低20% 依賴進口原材料，成本高 客戶響應 48小時內提供定制化解決方案 認證周期長（2-3年） 區(qū)域市場 東南亞、北美市占率超15% 全球市占率超60% 風險與挑戰(zhàn) 前段技術瓶頸：ArF、EUV光刻膠仍依賴進口，研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10。 客戶認證周期：半導體光刻膠需2-...

企業(yè)定位與資質 ? 成立背景：深耕半導體材料行業(yè)23年，位于松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，注冊資本2000萬元，是國家高新技術企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。 ? 質量體系：通過ISO9001:2008認證，嚴格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理，原材料源自美國、德國、日本等國，確保產品穩(wěn)定性。 ? 市場布局：產品遠銷全球，與世界500強企業(yè)及多家電子加工企業(yè)建立長期合作關系，覆蓋集成電路、顯示面板、先進封裝等領域。 無鹵無鉛錫膏廠家吉田，RoHS 認證，為新能源領域提供服務！中山阻焊油墨光刻膠國產廠商 企業(yè)優(yōu)勢 ...

國際廠商策略調整 應用材料公司獲曝光后處理，可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調查在中國市場面臨壓力，但其新一代乾膜式感光型介電質材料（CYCLOTENE DF6000 PID）仍在推進，試圖通過差異化技術維持優(yōu)勢。日本企業(yè)則通過技術授權（如東京應化填補信越產能缺口）維持市場地位。 國內產業(yè)鏈協(xié)同升級 TSMC通過租賃曝光設備幫助供應商降低成本，推動光刻膠供應鏈本地化，其中國臺灣EUV光刻膠工廠年產能達1000瓶，產值超10億新臺幣。國內企業(yè)借鑒此模式，如恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元，建設集成電路前驅體項目，形成“光刻膠-前驅體-設備”...

依托自主研發(fā)與國產供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體，實現(xiàn) 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內多家大型企業(yè)的深度合作，產品覆蓋智能手機、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國產原材料溯源體系，確保每批次產品穩(wěn)定性，推動 LCD 面板材料國產化進程。 吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。遼寧光刻膠多少錢 LCD 正性光刻膠（YK-200）應用場景：LCD 面板的電極圖案化（...

產品特點：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術處理，網(wǎng)版平滑、無白點、無沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細網(wǎng)點和線條；感光度高，曝光時間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間，提高工作效率 。 應用范圍：適用于塑料、皮革、標牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細印刷需求，制作各類標牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。 告別顯影殘留！化學增幅型光刻膠助力封裝。云南LED光刻膠多少錢 技術...

主要優(yōu)勢：細分領域技術突破與產業(yè)鏈協(xié)同 技術積累與自主化能力 公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達3μm，適用于MEMS傳感器、光學器件等領域，填補了國內空白。 技術壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。 產品多元化與技術化布局 產品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：...

廣東吉田半導體材料有限公司憑借技術創(chuàng)新與質量優(yōu)勢，在半導體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強酸強堿環(huán)境，適用于高精度納米結構制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外，公司還提供焊片、靶材等配套材料，滿足客戶多元化需求。 在技術層面，吉田半導體通過自主研發(fā)與國際合作結合，持續(xù)優(yōu)化生產工藝，實現(xiàn)全流程自動化控制。其生產基地配備先進設備，并嚴格執(zhí)行國際標準，確保產品性能達到國際水平。同時，公司注重人才培養(yǎng)與引進，匯聚化工、材料學等領域的專業(yè)團隊，為技術創(chuàng)新提供堅實支撐。未來，吉田半導體將繼續(xù)以...

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領域的豐富產品線。在焊接材料方面，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產品，滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時，感光膠系列產品分為水性與油性兩類，兼具耐潮性與易操作性，廣泛應用于印刷電路板制造。 公司產品遠銷全球，并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關系。通過在重點區(qū)域設立辦事處，提供快速響應的技術支持與售后服務。依托東莞 “世界工廠” 的產業(yè)資源，公司強化供應鏈協(xié)同，縮短交付周期，為客戶提供高效解決方案。 未來，廣東吉田半導體材料有限公司將繼續(xù)深化技術創(chuàng)新，拓展產品...

國家戰(zhàn)略支持 《國家集成電路產業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對通過驗證的企業(yè)給予稅收減免和設備采購補貼，單家企業(yè)比較高補貼可達研發(fā)投入的30%。 地方產業(yè)協(xié)同 濟南設立寬禁帶半導體產業(yè)專項基金，深圳國際半導體光刻膠產業(yè)展覽會（2025年4月）吸引全球300余家企業(yè)參展，推動技術交流。 資本助力產能擴張 恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元，擴大KrF光刻膠產能并布局集成電路前驅體項目。彤程新材半導體光刻膠業(yè)務2024年上半年營收增長54.43%，ArF光刻膠開始形成銷售。...

吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域，通過差異化技術（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領域（如第三代半導體、Mini LED）的多樣化需求。其產品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導體光刻膠的優(yōu)勢在于技術全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質量穩(wěn)定性及本土化服務，尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。 半導體光刻膠：技術領域取得里程碑。廣西厚膜光刻膠國產廠家 企業(yè)定位與資質 ? 成立背景：深耕半導體材料行業(yè)23年，位于松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，注冊資本2...

國家戰(zhàn)略支持 《國家集成電路產業(yè)投資基金三期規(guī)劃》將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持研發(fā)。工信部對通過驗證的企業(yè)給予稅收減免和設備采購補貼，單家企業(yè)比較高補貼可達研發(fā)投入的30%。 地方產業(yè)協(xié)同 濟南設立寬禁帶半導體產業(yè)專項基金，深圳國際半導體光刻膠產業(yè)展覽會（2025年4月）吸引全球300余家企業(yè)參展，推動技術交流。 資本助力產能擴張 恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元，擴大KrF光刻膠產能并布局集成電路前驅體項目。彤程新材半導體光刻膠業(yè)務2024年上半年營收增長54.43%，ArF光刻膠開始形成銷售。...

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。 負性光刻膠 SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。 負性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良...

吉田半導體的光刻膠產品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域，通過差異化技術（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領域（如第三代半導體、Mini LED）的多樣化需求。其產品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導體光刻膠的優(yōu)勢在于技術全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質量穩(wěn)定性及本土化服務，尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。 吉田技術自主化與技術領域突破！西安水油光刻膠價格 吉田半導體的自研產品已深度融入國內半導體產業(yè)鏈： 芯片制造：YK-300 光刻膠服務中芯國際、長江存儲，支...