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  • 河北PSP光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
    河北PSP光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

    德國Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù),突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18。系統(tǒng)體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環(huán)自動對焦(1秒完成)和半自動多層對準(zhǔn)功能,大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開發(fā)效率,適用于微流體芯片設(shè)計(jì)、電子元件制造等領(lǐng)域。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了...

  • 四川桌面無掩模光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    四川桌面無掩模光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    某生物物理實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了基于壓阻效應(yīng)的細(xì)胞力傳感器。其激光直寫技術(shù)在硅基底上制造出 5μm 厚的懸臂梁結(jié)構(gòu),傳感器的力分辨率達(dá) 10pN,較傳統(tǒng) AFM 提升 10 倍。通過在懸臂梁表面刻制 100nm 的微柱陣列,實(shí)現(xiàn)了單個(gè)心肌細(xì)胞收縮力的實(shí)時(shí)監(jiān)測,力信號信噪比提升 60%。該傳感器被用于心臟纖維化機(jī)制研究,成功捕捉到心肌細(xì)胞在病理狀態(tài)下的力學(xué)變化,相關(guān)數(shù)據(jù)為心肌修復(fù)藥物開發(fā)提供了關(guān)鍵依據(jù)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過...

  • 廣東德國PSP-POLOS光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模
    廣東德國PSP-POLOS光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

    德國 Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實(shí)驗(yàn)室,尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說,設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn),使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。? 盡管體積小巧,但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻。在小型實(shí)驗(yàn)室中,科研人員使用 Polos 光刻機(jī),在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究,成功取得多項(xiàng)成果。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,為科研創(chuàng)新提供有力支持。未來技術(shù)儲備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lea...

  • 遼寧德國POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸
    遼寧德國POLOS光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

    德國Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù),突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18。系統(tǒng)體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環(huán)自動對焦(1秒完成)和半自動多層對準(zhǔn)功能,大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開發(fā)效率,適用于微流體芯片設(shè)計(jì)、電子元件制造等領(lǐng)域。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了...

  • 吉林德國PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
    吉林德國PSP-POLOS光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

    某能源研究團(tuán)隊(duì)采用 Polos 光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá) 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,在智能穿戴設(shè)備中實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動能量的實(shí)時(shí)采集與存儲。其輕量化設(shè)計(jì)(體積 < 1mm3)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點(diǎn),使傳感器續(xù)航時(shí)間從 3 個(gè)月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)...

  • 浙江德國桌面無掩模光刻機(jī)
    浙江德國桌面無掩模光刻機(jī)

    Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學(xué)廢料產(chǎn)生,同時(shí)低能耗設(shè)計(jì)(如固態(tài)激光光源)符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。例如,其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機(jī)能耗降低30%,助力科研機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)碳中和目標(biāo)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提...

  • 北京POLOSBEAM-XL光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
    北京POLOSBEAM-XL光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

    Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如,其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,多層曝光疊加功能簡化了射頻器件(如IDC電容器)的制造流程。研究團(tuán)隊(duì)利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情...

  • 吉林POLOSBEAM-XL光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米
    吉林POLOSBEAM-XL光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

    石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉(zhuǎn)移,Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)避免了傳統(tǒng)濕法轉(zhuǎn)移的污染問題。某納米電子實(shí)驗(yàn)室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,成功制備出石墨烯場效應(yīng)晶體管,其電子遷移率達(dá) 2×10? cm2/(V?s),接近理論極限。該技術(shù)支持快速構(gòu)建多種二維材料異質(zhì)結(jié),使器件研發(fā)效率提升 5 倍,相關(guān)成果推動二維材料在柔性電子、量子計(jì)算領(lǐng)域的應(yīng)用研究進(jìn)入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)...

  • 吉林德國PSP-POLOS光刻機(jī)
    吉林德國PSP-POLOS光刻機(jī)

    單細(xì)胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻難以實(shí)現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成。Polos 光刻機(jī)的分層曝光功能,在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細(xì)胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道,通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi)。某細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該芯片,將單細(xì)胞分選通量提升至 1000 個(gè) / 秒,分選純度達(dá) 98%,較傳統(tǒng)流式細(xì)胞儀體積縮小 90%。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細(xì)胞檢測,使稀有細(xì)胞捕獲效率提升 3 倍,相關(guān)設(shè)備進(jìn)入臨床驗(yàn)證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效...

  • 河南德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米
    河南德國桌面無掩模光刻機(jī)分辨率1.5微米

    針對碳化硅(SiC)功率模塊的柵極刻蝕難題,Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)實(shí)現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設(shè)備,將 SiC MOSFET 的導(dǎo)通電阻降低 15%,開關(guān)損耗減少 20%,推動車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗(yàn)證新型柵極結(jié)構(gòu),使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,助力我國在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助...

  • 吉林BEAM-XL光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
    吉林BEAM-XL光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

    針對植入式醫(yī)療設(shè)備的長期安全性問題,某生物電子實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術(shù)避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細(xì)胞存活率達(dá) 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內(nèi)降解周期可控制在 3-12 個(gè)月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產(chǎn)品提升 50%,相關(guān)技術(shù)已進(jìn)入臨床前生物相容性評價(jià)階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件...

  • 四川POLOSBEAM光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
    四川POLOSBEAM光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

    無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。軟件高效兼容:BEAM Xplorer支持GDS文件導(dǎo)入,簡化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程。四川POLOSBEAM光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化Polos-BESM在電...

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