磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。所以如果是表面容易變質的靶材，如果不拋光去除表面變質部分，沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。揚州鍺靶材工廠
靶中毒的解決辦法（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環控制反應氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應曲線，使進氣流量控制在產生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：1.靶材安裝準確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線之間短路----------關掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下；----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當的距離，調整距離即可。5.永磁靶表面場強是否下降太多？---------如果下降太多，需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別？---------更換不同的靶材，起輝壓強不盡相同。換靶材后需要重新調功率匹配器的，只有功率匹配調好了才能正常起輝。 無錫氧化鋅靶材工廠濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類。
固定板200的厚度為10mm～15mm。若所述固定板200的厚度過大，使得所述固定板200的重量過大，不便于使用，影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過小，導致所述固定板200的強度和韌性較差，影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。
所述拋光片300表面與靶材側壁表面及經圓角處理的側棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒，用于增加所述拋光片300與靶材表面間的摩擦力，以提高拋光效率。
拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設置于所述頂板210與所述側板220的拐角處，且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過渡。所述拋光片第三部分330設置于所述側板220的內側面上，所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。
熔融鑄造法：
熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護性氣氛下進行。但鑄造過程中，材料組織內部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會導致濺射過程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質量。為此，需要后續熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購買靶材的注意事項有哪些許多用戶在采購靶材時沒有從專業的角度去考慮，下面為大家指出購買靶材時需要注意的事項。
對于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標之一，靶材的純度對后期產品薄膜的性能影響很大。但是每一個產品對靶材的純度要求也有不相同的地方。 對于所有的金屬來說，純度是靶材的主要性能指標之一，靶材的純度對后期產品薄膜的性能影響很大。
在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本發明對各種可能的組合方式不再另行說明。
此外，本發明的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本發明的思想，其同樣應當視為本發明所公開的內容。
本發明涉及靶材領域，具體涉及一種長壽命靶材組件。
目前，現有的半導體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經到了一個極限，為提高靶材的使用壽命，節省多次更換靶材的重復性。現有的技術都是通過磁場強度，把靶材表面設計成曲面來延長壽命，包括靶材本體及基體，所述基體的至少一面設有所述靶材本體，所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過等離子弧噴涂機噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結合面為呈內凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造方法步驟如下：(1)準備合金粉體；(2)準備基體；(3)等離子轉移弧噴涂成型；(4)、清理被噴涂層表面，按照步驟(3)的要求再次噴涂處理，直至獲得要求厚度的靶材。本發明有益效果在于：一是生產的靶材無氣孔殘留；二是生產設備簡單、投資小；三是靶材可以修復再利用。 不過在實際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。無錫氧化鋅靶材工廠
陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。揚州鍺靶材工廠
什么是真空鍍鋁膜，應用在哪些領域？ 真空鍍鋁薄膜是在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝，我國鍍鋁膜產能已達到40萬噸。主要用于風味食品、日用品、農產品、藥品、化妝品的包裝。 真空鍍鋁薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子束等加熱方式使鋁熔化蒸發，在薄膜基材的表面附著而形成復合薄膜的一種工藝。在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜或鍍鋁紙。 用于包裝上的真空鍍鋁薄膜具有鋁材用量少、耐折疊性高、阻隔性能高、抗靜電等特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優良、經濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、日用品、農產品、藥品、化妝品等的包裝。揚州鍺靶材工廠
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外知名研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。