密度也是靶材的關鍵性能指標之一.在靶材的技術工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因為靶材主要特性密度對濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。
是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮。揚州銅靶工廠
等離子預處理工藝在真空鍍鋁膜中的應用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成，其中電子和離子的電荷總數基本相等，故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前，通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面，一方面，可以打開材料的長分子鏈，出現高能基團；另一方面，經打擊使薄膜表面出現細小的凹陷，同時還可使表面雜質離解、重解。電離時放出的臭氧有強氧化性，附著的雜質被氧化而除去，使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高，達到提高鍍鋁層附著牢度的目的。 等離子預處理技術在不同公司其稱呼不同，如英國Bobst公司、德國Leybold Optic萊寶光電等稱之為等離子預處理，美國Applied Material公司稱之為輝光放電，英國Rexam公司為其注冊商標為Camplus技術。另外，不同公司其使用的工藝氣體的組分也有所不同，多數公司使用氧氣和氬氣的組合，也有少數公司使用氮氣或氧氣與氮氣的組合。實踐證明經過等離子處理后的薄膜其鍍鋁層附著牢度可以提高30-50%，且表現為非極性材料提高幅度高于極性材料。揚州銅靶工廠濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應對？磁控濺射金屬靶時，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：
1. 靶材安裝準確否?
2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質，打磨清理干凈后即可。
3. 起輝電源是否正常------------檢查靶電源。
4. 靶與地線之間短路
----------關掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下；
----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當的距離，調整距離即可。
5. 永磁靶表面場強是否下降太多？
---------如果下降太多，需要更換磁鋼。
真空鍍膜機在塑膠行業的應用 真空鍍膜機應該普遍，在塑料行業的應該也很普遍。而塑膠在生活，工業，電器，航空等領域都有涉及。塑膠具有易成型，價格便宜，質量輕，防腐蝕等優點，但塑膠的缺點也比較突出，其缺點也制約了塑膠的應用范圍，如不美觀、易老化、機械性能差、易碎易變型、耐熱差等。通過真空鍍膜機的應用，使塑膠表面鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研發生產的蒸發真空鍍膜設備將鍍膜機材料和塑膠產呂完美結合，提高了塑膠制品的物理、化學性能。 一、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜，硬度及耐磨性增加； 二、使塑料表面有導電性； 三、容易清洗，不吸塵； 四、改善塑膠外觀，表面光滑，金屬感強，色澤光鮮，裝飾性提高。射靶材應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域。
涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用 將涂布技術與真空鍍鋁技術結合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應用領域的要求。 一．經過等離子預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學涂層，該涂層不對鍍鋁層有優異的粘附性能，同時可以滿足后續的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會因為水煮而發生氧化。 二．為進一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時保護鍍鋁層在后續的印刷、復合等加工過程中不被破壞，可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實現。 三．為提高鍍鋁膜的裝飾性能，在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進行各種顏色的涂布，或模壓后再進行鍍鋁，使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效果。此類產品可分為三種：包裝用膜、裝飾用膜、標示用膜。主要應用于禮品、禮盒的裝飾或防偽包裝用途，如食品、藥品、玩具等的外包裝以及酒等的防偽包裝。由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子。杭州五氧化二釩靶
所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理，確保冷卻水循環的順暢和進出水口不會被堵塞。揚州銅靶工廠
ITO薄膜制作過程中的影響因素 ITO薄膜在濺鍍過程中會產生不同的特性，有時候表面光潔度比較低，出現“麻點”的現象，有時候會出現高蝕間隔帶，在蝕刻時還會出現直線放射型缺劃或電阻偏高帶，有時候會出現微晶溝縫。 常用的ITO靶材是通過燒結法生產的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進行混合，通常質量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導體（氧化銦錫，ITO）。一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質量，深灰色是好的，相反越黑質量越差，我國生產的ITO靶材質量還可以的是黑灰色的。 研究顯示，在真空鍍膜機ITO薄膜濺鍍過程中，使用磁控濺射的方式，基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下，電阻率達到低，而薄膜的結晶度也隨著基底溫度的提高而提高，晶粒尺寸也逐漸增大，超過200℃后透射率趨于減弱；使用電子束蒸鍍的方式，隨著退火溫度升高，晶粒尺寸變大，表面形貌均一穩定，超過600℃后顆粒變得大小不一，形狀各異，小顆粒團聚現象嚴重，薄膜表面形貌破壞。揚州銅靶工廠
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外知名研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l展理念。