電解錳片狀99.7%1-10mm真空熔煉Co-F3501電解鈷片狀99.95%1-10mm真空熔煉Co-I3504電積鈷塊狀99.95%40*40*5mm真空熔煉Co-G3533鈷顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉W-G3536m真空熔煉Ta-G3533鉭顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Nb-G3533鈮顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Mo-G3533m真空熔煉Si-I5011多晶硅塊狀99.999%不規則塊狀真空熔煉In-G4501銦顆粒99.995%1-3mm真空熔煉Zr-I2402海綿鋯塊狀99.4%3-25mm真空熔煉Hf-I2402海m真空熔煉Ge-G5006鍺顆粒99.999%3-5mm真空熔煉La-I3011鑭塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉Er-I3011鉺塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉Dy-I3011鏑塊狀99.9%不規則塊狀真空熔煉W-P3504鎢粉末99.95%325目粉末冶金Al-P3504&nbs5目粉末冶金TiC-P2514碳化鈦粉末99.5%3-5μm粉末冶金HfC-P2514碳化鉿粉末99.5%3-5μm粉末冶金ZrB2-P2519二硼化鋯粉末99.5%10μm粉末冶金Ti-F2612.2*L耗材配件Ta-F3513鉭0*0.2mm耗材配件Nb-F3513*100*0.2mm耗材配件合金定制流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；需要后續熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。無錫Sn靶材圖片
本實施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv；其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鈦；所述背板的材質包括鋁。所得靶材組件濺射強度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。對比例1與實施例1的區別 在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.5mm；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對比例2與實施例1的區別 在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。無錫銅靶材作用正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電，使陰極濺射無法進行下去。
PECVD 制備氫化非晶硅薄膜 本實驗采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會變差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大; (4) 隨著濺射時間的增加, 膜的厚度成非線性增加，沉積速率開始較快，之后逐漸減慢，膜的表面粗糙度逐漸變大; (5)隨著濺射氣壓的增大，沉積速率有所降低。
什么是3D玻璃？ 現在數碼產品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒有任何弧形設計；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設計；而3D屏幕，無論是中間還是邊緣都采用弧形設計。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產品設計需求。3C 產品設計如智能手機、智能手表、平板計算機、可穿戴式智能產品、儀表板等陸續出現 3D 產品，已經明確引導3D曲面玻璃發展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳等優點，可型塑做出3D多形狀外觀具有產品特殊設計新穎性與質感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機能，并能解決天線布置空間不足及增強收訊功能，使產品更美觀出色，產品設計差異化使消費者更能青睞。由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？
直流磁控濺射制備鋅-銻熱電薄膜的技術探討 熱電材料是一種能夠實現熱能和電能直接相互轉換的綠色環保型功能材料。近年來研究發現，熱電薄膜化有助于熱電材料減低熱導率，從而能夠有效的提高材料的熱電轉換效率，因此具有十分重要的科學研究價值。Zn-Sb合金是采用的P 型熱電半導體材料之一，但由于其較低的熱電優值，所以沒有得到普遍的應用。 但近幾年研究發現，在263 K~767K 溫度區間穩定存在的β-Zn4Sb3 具有非常優異的熱電性能，材料少含稀土材料以及可適用于中溫，被國內外認為是具有前景的中溫熱電材料之一。因此，本文選取純度為99.99%的Zn 和Sb 金屬靶作為靶材，采用直流磁控共濺射技術，制備Zn-Sb 合金熱電薄膜，研究不同熱處理條件下合成的Zn-Sb 化合物熱電薄膜的結構與熱電特性變化規律。 結果表明，選取適當的濺射Zn和Sb的功率條件，濺射完成合金薄膜后在Ar 氣氛下進行623 K 退火熱處理，可形成具有單一β-Zn4Sb3相結構的Zn-Sb 熱電薄膜，且薄膜顆粒大，較致密，所制備的熱電薄膜具有優良的熱電性能。靶材太薄、靶材太貴的情況等。 但下列情況綁定有弊端。VC靶材型號
通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續進行。無錫Sn靶材圖片
作為本發明 的技術方案，所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種。作為本發明 的技術方案，所述背板的材質包括銅和/或鋁。作為本發明 的技術方案，所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm；所述靶材表面的硬度為20-30hv；其中，所述靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結構；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環形；所述靶材的材質包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種；所述背板的材質包括銅和/或鋁。與現有技術方案相比，本發明具有以下有益效果：本發明中，通過調整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之間的協同效果保證濺射強度，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。無錫Sn靶材圖片
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外知名研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列高品質濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供高品質的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l展理念。