廣東工業級無掩膜光刻三維微納米加工系統

來源: 發布時間:2022-01-07

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調節范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件,例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強度和折射率高度相關,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。無掩膜光刻技術運用領域廣,分辨高,如需了解更多請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。廣東工業級無掩膜光刻三維微納米加工系統

廣東工業級無掩膜光刻三維微納米加工系統,無掩膜光刻

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。江蘇工業級無掩膜光刻技術Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統未來的發展趨勢。

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多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內的其他行業帶領機構一起開發頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創新,并可以應用在醫療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發團隊將開展多項實驗,開發工業傳感器和成像系統,這就需要復雜的研發工作,還需要開發可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。

Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術的打印機競爭,例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案;LithoProf3D,一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機,以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一,QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”,可實現高精度增材制造,在其中可以比較好平衡精度和速度,以實現特別高水平的生產力和質量。Nanoscribe認為該打印機能夠產生“非常出色的輸出”,該打印機依賴于基于移動鏡技術的振鏡(Galvo)系統和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統控制單元,并結合了行業-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件,并且對第三方或定制材料開放。此外,它可以通過設備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制,允許遠程控制連接打印機的打印作業,將實驗室的準備時間減少到限度低值,并在共享系統時簡化團隊協作。想要了解無掩膜光刻的特點和用途,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統可以實現精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。Nansocribe公司的無掩模光刻系統,采用一種全新的方式解決了制造并集成3D微納結構到2D微流體通道的問題 。天津2PP無掩膜光刻工藝

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術的運用。廣東工業級無掩膜光刻三維微納米加工系統

Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。廣東工業級無掩膜光刻三維微納米加工系統

納糯三維科技(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區加楓路26號108室,是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領域內的技術開發,技術轉讓,技術咨詢,技術服務,三維打印設備,光電機一體化設備和相關零配件的批發,進出口,傭金代理,并提供相關配套服務,貿易信息咨詢,企業管理咨詢。的公司。納糯三維擁有一支經驗豐富、技術創新的專業研發團隊,以高度的專注和執著為客戶提供PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統,雙光子微納光刻系統。納糯三維致力于把技術上的創新展現成對用戶產品上的貼心,為用戶帶來良好體驗。納糯三維始終關注儀器儀表行業。滿足市場需求,提高產品價值,是我們前行的力量。

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