東莞高溫光刻膠價格

1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應用場景：用于芯片的精細圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。
   特點：高分辨率（可達亞微米級），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。
2. 負性光刻膠（如 JT-1000）
   應用場景：用于功率半導體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結構成型。
   特點：抗蝕刻能力強，適合復雜圖形的轉移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現優異。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應用場景：第三代半導體（GaN、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）、耐酸堿，支持納米級精度圖案復制，降低芯片的制造成本。

厚板光刻膠

• 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩定性，比如汽車電子、工業控制等領域的電路板，能承受復雜環境和大電流、高電壓等工況。
• 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環節，保障芯片內部電路的精細布局，提高器件的性能和可靠性。

負性光刻膠

• 半導體制造：在芯片制造過程中，用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結構，如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實現精確的圖形轉移，確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
• 平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機發光二極管顯示器（OLED）的制造中，用于制作電極、像素等大面積圖案。以 LCD 為例，負性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案，控制液晶分子的排列，從而實現圖像顯示。

依托自主研發與國產供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內前段企業。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體，實現 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內多家大型企業的深度合作，產品覆蓋智能手機、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國產原材料溯源體系，確保每批次產品穩定性，推動 LCD 面板材料國產化進程。

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001，具備優異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規格，分辨率高，準確性和穩定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；

半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。 挑戰與未來展望的發展。中山網版光刻膠國產廠家

吉田半導體光刻膠，45nm 制程驗證，國產替代方案!東莞高溫光刻膠價格

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優勢，適用于不同領域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，能確保 LCD 生產過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。

半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中，比如一些特殊環境下的半導體加工或電路板制造。 東莞高溫光刻膠價格