珠海進口光刻膠廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-05-25

憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,吉田半導體的材料遠銷全球,并與多家跨國企業(yè)建立長期合作。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲能等清潔能源領(lǐng)域,助力客戶實現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過導入國際標準認證(如 ISO14001 環(huán)境管理體系),進一步強化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力。

未來,廣東吉田半導體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動,深化綠色制造戰(zhàn)略,為半導體產(chǎn)業(yè)的低碳化、可持續(xù)發(fā)展貢獻力量。以品質(zhì)為依托,深化全球化布局,為半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動力。
無鹵無鉛錫膏廠家吉田,RoHS 認證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!珠海進口光刻膠廠家

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主要優(yōu)勢:細分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同

 技術(shù)積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,分辨率達3μm,適用于MEMS傳感器、光學器件等領(lǐng)域,填補了國內(nèi)空白。
技術(shù)壁壘:掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達PPT級,金屬離子含量低于0.1ppb,良率超99%。

 產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如:

? LCD光刻膠:適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品,良率提升至98%。

? 半導體錫膏:供應(yīng)華為、OPPO等企業(yè),年采購量超200噸,用于5G手機主板封裝。
技術(shù)化延伸:計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā),目標進入中芯國際、長江存儲供應(yīng)鏈。

 質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,原材料采用美、德、日進口高質(zhì)量材料。擁有全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達2000噸(光刻膠及配套材料),支持大規(guī)模訂單交付。

河南制版光刻膠廠家發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。

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納米電子器件制造

? 半導體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。

? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。

 納米光子學與超材料

? 光子晶體與波導:利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級波導彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學器件。

? 超材料設(shè)計:在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案(如太赫茲超材料),實現(xiàn)對電磁波的超常調(diào)控(吸收、偏振轉(zhuǎn)換)。

吉田半導體水性感光膠 JT-1200:水油兼容,鋼片加工精度 ±5μm

JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,提升汽車電子部件制造精度。
針對汽車電子鋼片加工需求,吉田半導體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實現(xiàn)水油兼容性達 100%,加工精度 ±5μm。其高粘接強度與耐強酸強堿特性,確保復雜結(jié)構(gòu)的長期可靠性。其涂布性能優(yōu)良,易做精細網(wǎng)點,適用于安全氣囊傳感器、車載攝像頭模組等精密部件。產(chǎn)品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認證,生產(chǎn)過程嚴格控制金屬離子含量,確保電子產(chǎn)品可靠性。
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  1. 正性光刻膠(如 YK-300)
    應(yīng)用場景:用于芯片的精細圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。
    特點:高分辨率(可達亞微米級),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。
  2. 負性光刻膠(如 JT-1000)
    應(yīng)用場景:用于功率半導體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。
    特點:抗蝕刻能力強,適合復雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
  3. 納米壓印光刻膠(JT-2000)
    應(yīng)用場景:第三代半導體(GaN、SiC)芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點:耐高溫(250℃)、耐酸堿,支持納米級精度圖案復制,降低芯片的制造成本。
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 全品類覆蓋與定制化能力
吉田半導體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類,適用于半導體、顯示面板、MEMS等多個領(lǐng)域。例如,其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,支持客戶定制化工藝參數(shù),尤其在柔性顯示(OLED)和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。
技術(shù)亮點:通過自主研發(fā)的樹脂配方和光敏劑體系,實現(xiàn)了高分辨率(120nm)和高抗蝕性的平衡,部分指標(如線寬粗糙度LWR<3nm)接近國際主流產(chǎn)品水平。

 國產(chǎn)化材料與工藝適配
公司采用進口原材料+本地化生產(chǎn)模式,關(guān)鍵樹脂單體、光敏劑等主要成分通過德國默克、日本信越等供應(yīng)商采購,同時建立了超純提純工藝(雜質(zhì)含量<1ppm),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,其光刻膠與國內(nèi)主流光刻機(如上海微電子SSA800)、勻膠顯影機(如盛美上海)的兼容性已通過驗證,縮短客戶工藝調(diào)試周期。
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標簽: 錫片 光刻膠
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