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可通過蒸發(fā)或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點或的蒸氣壓來實施共沸型化合物的確定。在工業(yè)應(yīng)用的情況下使用共沸物是特別有利的,以使組合物再生,例如當(dāng)其飽和有污染物的時候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物,而沒有各組分的任何分餾。而且,2-甲基四氫呋喃(2-Me...
伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°,進(jìn)液管8的形狀設(shè)計為l型,且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間,圓環(huán)塊13通過伸縮桿...
íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecie...
sedispondrándeanillosderefuerzoennúánenelinteriordelasvirolasalasqueestánfijadosporsoldaduraenángulodiscontinua,concosturasalt...
除去75重量%的油。在45°C下的簡單加熱、或者在環(huán)境溫度(20°C)下的簡單攪拌或超聲應(yīng)用可以除去所有的沉積油。此外,沒有觀察到油的溶解,而是觀察到上升到液體表面的油的脫離(卷起機(jī)理(rollingupmechanism)).與快速導(dǎo)致溶劑飽和的溶解...
光刻膠又稱光致抗蝕劑,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版...
可通過蒸發(fā)或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點或的蒸氣壓來實施共沸型化合物的確定。在工業(yè)應(yīng)用的情況下使用共沸物是特別有利的,以使組合物再生,例如當(dāng)其飽和有污染物的時候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物,而沒有各組分的任何分餾。而且,2-甲基四氫呋喃(2-Me...
desecciónmínima16milíóneléctricadelapuestaatierrapodrárealizarseatravésdeuninterruptormanual,congradodeprotecciónadecuadoalacl...
gradodelafuentedeescapeeinfluenciadelaventilación)laextensióndecadazonapeligrosaobedeceráalossiguientescriteriosyconsideracion...
?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargade...
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并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象,確實達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50,...
conunanormaeuropeaENoconunarecomendaciónCEIparaalgunosdelosmodosdeprotecciónsiguientes:1.oInmersiónenaceite?o?.2.oSobrepresión...
所述制備裝置主體的內(nèi)部中間部位活動連接有高效攪拌裝置,所述制備裝置主體的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板,所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座,所述裝置底座的內(nèi)部底部固定連接有成品罐,所述裝置底座的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐,所述裝置底座的頂端另一...
本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進(jìn)行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物...
EN10029yEN10029AC).2.aSobrelongitudes:+1/.aSobrecapacidadnominal:+3/ónovalización:semidelaovalizaciónantesydespuésdelllenadode...
0HT260WXC-100CELLHT260WX2-101MV238FHB-N10MV238FHM-N10HT236F01-100HT236F03-100HM236WU1-100HM236WU1-400HM236WU3-100HM236WU3-110H
T156WXB-500HB156WX1-100HT156WXB-502HB156WX1-600HB156WX1-500NT156WHM-N21HB156WX1-200NT156WHM-N10HB156FH1-301HB156FH1-401NT156WH
形成氣液混合體,從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液,蝕刻廢液量1000m3/d,相比沒有使用本實用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),能耗節(jié)約40%,節(jié)約使用藥品100kg/d,經(jīng)濟(jì)效益提高30%。作為本實施例的...
本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中,經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任...
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能夠增強(qiáng)親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實施例對本申請作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實施例對本申請進(jìn)行進(jìn)一步說明,不應(yīng)理解為對本申請的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配...
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù):光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、...
EN10029yEN10029AC).2.aSobrelongitudes:+1/.aSobrecapacidadnominal:+3/ónovalización:semidelaovalizaciónantesydespuésdelllenadode...
本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進(jìn)行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物...
砷化鎵也有容易被腐蝕的特點,比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠,也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后,需要去除光刻膠之后進(jìn)行下一步。有時直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對于等離子體處理過的光刻膠,一般就比較難去除干凈。有的人把加...
tuberíayaparatosurtidorotubuladuradeldepóíarígidayconectorflexibledeberánserfáónquedarácondicionadaaqueestematerialcumplalosre...
?O?.Elinteriordeestaarquetasseclasificazona?O?debidoasusituaciónbajoelniveldesueloyportenerpuntosdeescapes,bienporladescargade...
該實施例中所含成分及各成分稱取的質(zhì)量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p,添加量分別為總質(zhì)量的%、%。實施例2本發(fā)明的實施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中,該實施例中所...