本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺之間形成一插槽，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機(jī)構(gòu)，壓緊塊位于插槽中，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓...

通過滑動蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動，將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部兩側(cè)的固定槽內(nèi)，收縮彈簧管25設(shè)置有四處，分別設(shè)置在兩滑動蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面，再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動蓋24向內(nèi)活動，使過濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封，...

該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其主要特征在于：該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置，且...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅，工藝體系，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產(chǎn)過程中...

可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對油墨沒有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來回輕輕刷動，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺之間形成一插槽，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機(jī)構(gòu)，壓緊塊位于插槽中，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓...

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的...

為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖，以及其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖，在本實(shí)用新型其二較佳實(shí)施例中，開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，例如：圖4中所示的w...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)...

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的...

本實(shí)用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中，會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進(jìn)行回收利用，在回收過程中，廢液在加熱器中通過蒸汽進(jìn)行換熱，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進(jìn)入分離器，會在分離器中發(fā)生閃蒸，...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°，進(jìn)液管8的形狀設(shè)計(jì)為l型，且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過伸縮桿...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號...

本實(shí)用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中，會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進(jìn)行回收利用，在回收過程中，廢液在加熱器中通過蒸汽進(jìn)行換熱，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進(jìn)入分離器，會在分離器中發(fā)生閃蒸，...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅，工藝體系，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產(chǎn)過程中...

下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。圖1是實(shí)施例一中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖2是實(shí)施例二中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖3是實(shí)施例三中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖4是實(shí)施例四中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方...

所述有機(jī)硫化合物具有作為還原劑及絡(luò)合劑(chelate)的效果。作為所述硫酮系化合物，例如可舉出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N...

更推薦滿足。參照圖4，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4，所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱，達(dá)到閃蒸要求的溫度，輸送...

本實(shí)用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起，全自動灌裝線在鋁蝕...

近年來，oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機(jī)和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對此進(jìn)行蝕刻，目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有...

圖7：本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖。圖8：本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖9：本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10：本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板...

etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實(shí)施方式本發(fā)明人確認(rèn)了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時(shí)能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化，從而完成了本發(fā)明。本...

避免接觸皮膚、眼睛和衣服；存儲：密閉存放在陰涼干燥的地方8.防燥和人員保護(hù)極限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationcategory-II,2)(Vapour)(skin)...

銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于平板顯示、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。隨著新技術(shù)的不斷進(jìn)步，對該蝕刻液也有了更高的要求。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進(jìn)行了無氟，無硝酸，低雙氧水濃度銅蝕...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系...

以往的光刻膠剝離液對金屬的腐蝕較大，可能進(jìn)入疊層內(nèi)部造成線路減薄，藥液殘留，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會對疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，既具有較高的光刻膠剝離效率，又不會對晶圓...

所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為，所述酸的濃...