磁控濺射鍍膜生產ZnO∶Al（AZO）薄膜的工藝探討目前主要的薄膜太陽能電池有：碲化鎘（CdTe）系薄膜太陽能電池、硒銦銅（CIS）系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩定的絨面ZnO∶Al陷光結構來作為薄膜太陽能電池的前電極。具有彈坑狀絨面結構的AZO透明導電薄膜可以增強太陽光的散射作用，改善陷光效果，增加電池對太陽能的吸收量，提高薄膜太陽能電池的轉換效率。磁控濺射鍍膜工藝在玻璃襯底上制作AZO透明導電薄膜具有成膜速度快、膜層均勻、成膜面積大等優點，是較為合適的生產AZO薄膜的工藝方法。目前由磁控濺射工藝生產透明導電薄膜AZO時所用靶材有兩種類型：①陶瓷AZO靶材；②合金鋅鋁靶材。應根據實際情況，選擇適合本企業的靶材產品。作為一種新的TCO材料，AZO相對于ITO和FTO有很大優勢，要大規模產業化還必須在如何降低設備及工藝成本上進一步研發。從根本上說，AZO薄膜的結構性能的好壞決定了其光電性能的優劣，必須在工藝參數上多做研究，實現高質量和低成本的雙贏。靶材密度越高，薄膜的性能越好。揚州鉻靶廠商
影響磁控靶濺射電壓的主要因素有：靶面磁場、靶材材質、氣體壓強、陰-陽極間距等。本文詳細分析這些因素距對靶濺射電壓的影響。 一、 靶面磁場對靶濺射電壓的影響 1. 磁控靶的陰極工作電壓，隨著靶面磁場的增加而降低，也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是因為靶的濺射刻蝕槽面會越來越接近靶材后面的磁鋼的強磁場。因此，靶材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強的磁場中使用。 2. 鐵磁性靶材會對磁控靶的濺射造成影響，由于大部分磁力線從鐵磁性材料內部通過，使靶材表面磁場減少，需要很高電壓才能讓靶面點火起輝。除非磁場非常的強，否則磁性材靶材必須比非磁性材料要薄，才能起輝和正常運行(永磁結構的Ni靶的典型值<0.16cm，磁控靶非特殊設計最大值一般不宜超過3mm，Fe，co靶的最大值不超過2mm;電磁結構的靶可以濺射厚一些的靶材，甚至可達6mm厚)才能起輝和正常運行。正常工作時，磁控靶靶材表面的磁場強度為0.025T~0.05T左右;靶材濺射刻蝕即將穿孔時，其靶材表面的磁場強度大為提高，接近或大于0.1T左右。成都富鋰鈷酸鋰靶作用濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。
靶中毒現象
(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。
4、靶中毒的物理解釋
（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會***降低。
2、鈀 靶材 99.99%? 常規尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做 3、電鏡鈀片常規尺寸：φ57*0.1mm；φ57*0.2mm；φ58*0.1mm；φ58*0.2mm 4、鈀 箔片 99.99% 常規尺寸：100*100*0.2mm等，尺寸可定做 二、其他服務： 打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務。 回收流程如下： 稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品 供應高純靶,鈀靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材 產品編碼 產品名稱 規格 應用 Au-G5034 金 顆粒 99.999% φ3*4mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Pt-G4028 鉑 顆粒 99.99% φ2*8mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Ag-G4025 銀 顆粒 99.99% φ2*5mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Pd-G3536 鈀 顆粒 99.95% φ3*6mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Al-G5033 鋁 顆粒 99.999% φ3*3mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Cr-G3501 鉻 顆粒 99.95% 1-3mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Ti-G4533 鈦 顆粒 99.995% φ3*3mm 熱蒸發、電子束鍍膜 Ni-G4533 鎳 顆粒 99.995% φ3*3mm 熱蒸發、電子束鍍膜 S-G5002 硫 顆粒 99.999% 1-6mm 熱蒸發、靶與地線之間短路 ----------關掉機器，把設備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細清洗一下。
真空熔煉 Mn-F2701 電解錳 片狀 99.7% 1-10mm 真空熔煉 Co-F3501 電解鈷 片狀 99.95% 1-10mm 真空熔煉 Co-I3504 電積鈷 塊狀 99.95% 40*40*5mm 真空熔煉 Co-G3533 鈷 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 W-G3536 m 真空熔煉 Ta-G3533 鉭 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Nb-G3533 鈮 顆粒 99.95% φ3*3mm 真空熔煉 Mo-G3533 m 真空熔煉 Si-I5011 多晶硅 塊狀 99.999% 不規則塊狀 真空熔煉 In-G4501 銦 顆粒 99.995% 1-3mm 真空熔煉 Zr-I2402 海綿鋯 塊狀 99.4% 3-25mm 真空熔煉 Hf-I2402 海 m 真空熔煉 Ge-G5006 鍺 顆粒 99.999% 3-5mm 真空熔煉 La-I3011 鑭 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 Er-I3011 鉺 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 Dy-I3011 鏑 塊狀 99.9% 不規則塊狀 真空熔煉 W-P3504 鎢 粉末 99.95% 325目 粉末冶金 Al-P3504 &nbs 5目 粉末冶金 TiC-P2514 碳化鈦 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 HfC-P2514 碳化鉿 粉末 99.5% 3-5μm 粉末冶金 ZrB2-P2519 二硼化鋯 粉末 99.5% 10μm 粉末冶金 Ti-F2612 .2*L 耗材配件 Ta-F3513 鉭 0*0.2mm 耗材配件 Nb-F3513 *100*0.2mm 耗材配件 合金定制 流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質。無錫氧化鉻靶調試
半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。揚州鉻靶廠商
真空鍍膜設備替代電鍍設備是發展的必然 2012年全國化學電鍍產生的污水和重金屬排放量達到3.5億噸，固體廢物達到4.1萬噸，酸性氣體達到2.3萬立方米，由于真空鍍膜設備逐漸應用到市場上，污染排放量比2011年有所下降，但仍是一個不可忽視的數據，為處理這大量的污染，大部分企業已投放了共5868.1億元在污水治理方面，464.8億元在固體廢物治理方面，974.9億元在酸性氣體治理方面，但仍然有部分企業沒有完善治理措施，造成大量污染。 使用真空鍍膜設備進行電鍍可以有效改善污染情況，它不像化學電鍍需要使用重金屬溶液和酸性溶液進行鍍膜，而是在真空環境下利用蒸發或濺射方式進行鍍膜，完全沒有污染產生，是一種綠色低碳、符合可持續發展戰略的產業，已經越來越多企業淘汰了舊方式化學電鍍而轉用真空電鍍，但還有很多企業沒意識到環保的重要性，不懂得綠色生產其實是為自己和后代創建美好生存環境的道理。 綠色環保產業是必然的發展趨勢，造成嚴重污染的化學電鍍終會退出歷史舞臺，取而代之的是真空電鍍，利用真空鍍膜機鍍膜成為主流是不可質疑的。揚州鉻靶廠商
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業生產濺射靶材和蒸發材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發機構合作，整合各行業資源優勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好。”的發展理念。