浙江襯底光刻機(jī)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2020-05-13

我們的研發(fā)實(shí)力。

EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和最/大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的核心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導(dǎo)向,研發(fā)才具有價(jià)值,也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。 EVG101光刻膠處理機(jī)可支持最/大300 mm的晶圓。浙江襯底光刻機(jī)

EVG的光刻機(jī)技術(shù):EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的度量工具。

EVG不斷展望未來(lái)的市場(chǎng)趨勢(shì),因此提供了針對(duì)特定應(yīng)用的解決方案,尤其是在光學(xué)3D傳感和光子學(xué)市場(chǎng)中,其無(wú)與倫比的EVG的工藝和材料專業(yè)知識(shí)-源自對(duì)各種光刻膠材料進(jìn)行的廣/泛優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素。 EVG620光刻機(jī)價(jià)格怎么樣EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是適用于高達(dá)300 mm的不同的厚度,尺寸,形狀的晶圓和基片。

IQ Aligner®NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光

先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)功能/完整的明場(chǎng)掩模移動(dòng)(FCMM)

大間隙對(duì)準(zhǔn)

跳動(dòng)控制對(duì)準(zhǔn)


IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制:

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)

多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除


如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們。如果需要鍵合機(jī),請(qǐng)看官網(wǎng)信息。

       EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商,今 天宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的全 面組合產(chǎn)品組合的多個(gè)訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對(duì)晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場(chǎng)領(lǐng)先的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動(dòng)UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進(jìn)器,用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng),用于對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。

      使用最 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級(jí)制造微透鏡,衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來(lái)諸多好處。這些措施包括通過(guò)高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過(guò)堆疊使最終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場(chǎng)領(lǐng) 導(dǎo)者,擁有全球最 大的工具安裝基礎(chǔ)。 EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn)。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù):

可用模塊:旋涂/ OmniSpray ® /開(kāi)發(fā)

分配選項(xiàng):

各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度;

液體底漆/預(yù)濕/洗盤;

去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR);

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)。


智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺(tái))

用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能,提高效率

設(shè)備和過(guò)程性能跟/蹤功能:智能處理功能;事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤


晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米


EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm。晶圓片光刻機(jī)售后服務(wù)

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻。浙江襯底光刻機(jī)

EVG光刻機(jī)簡(jiǎn)介

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開(kāi)創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來(lái)為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),以增強(qiáng)最重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300 mm的不同的尺寸,形狀和厚度的晶圓和基片,同時(shí)為高級(jí)應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性。EVG光刻機(jī)的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到,包括高級(jí)封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。 浙江襯底光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專業(yè)設(shè)備齊全。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),熟悉行業(yè)專業(yè)知識(shí)技能,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值,希望通過(guò)我們的專業(yè)水平和不懈努力,將磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求,也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造高品質(zhì)的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。

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