北京納米壓印美元報價

來源: 發布時間:2020-06-21

納米壓印光刻(NIL) -SmartNIL ®

用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝

介紹:

EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領先設備供應商。EVG開拓了這種非常規光刻技術多年,掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究,開發和現場經驗進行了優化,以解決常規光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。

如果要獲得詳細信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網。


EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的第 一選擇。北京納米壓印美元報價

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上最 先 進的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產,包括用于增強/虛擬現實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫學設備,納米光子學和等離激元學。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產最小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


廣東納米壓印有哪些應用 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以最小的占位面積提供了最 新的掩模對準技術。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持最 新的UV-LED技術

最小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:最多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術


EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識,能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有無與倫比的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

為了優化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環境,以確保最 低的缺 陷率和最 高質量的原版復制。

通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在全 面積NIL設備解決方案中的領導地位。

*根據ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產最小40 nm *或更小的結構

聯合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可最 大程度地重復使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時間最快

優化的模塊化平臺可實現高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板 高 效,強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和最少殘留層,易于擴展的晶圓尺寸和產量。低溫納米壓印出廠價

EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。北京納米壓印美元報價

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


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