光刻機軟件支持
基于Windows的圖形用戶界面的設計，注重用戶友好性，并可輕松引導操作員完成每個流程步驟。多語言支持，單個用戶帳戶設置和集成錯誤記錄/報告和恢復，可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統都可以遠程通信。因此，我們的服務包括通過安全連接，電話或電子郵件，對包括經過現場驗證的，實時遠程診斷和排除故障。EVG經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持，這得益于我們分散的全球支持機構，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和
北美 (美國). 只有以客戶的需求為導向，研發才具有價值，也是我們不斷前進的動力。MEMS光刻機
這使得可以在工業水平上開發新的設備或工藝，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經驗，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。
光刻膠處理設備有：EVG101光刻膠處理，EVG105光刻膠烘焙機，EVG120光刻膠處理自動化系統；EVG150 光刻膠處理自動化系統。如果您需要了解每個型號的特點和參數，請聯系我們，我們會給您提供最/新的資料?；蛘咴L問我們的官網獲取相關信息。
功率器件光刻機有哪些應用EVG610 掩模對準系統，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm。
EVG的掩模對準系統含有：EVG610；EVG620 NT半自動/全自動掩模對準系統；EVG6200 NT半自動/全自動掩模對準系統；IQ Aligner 自動掩模對準系統；IQ Aligner NT自動掩模對準系統；
【EVG ® 610掩模對準系統】EVG
® 610是一個緊湊的和多用途R＆d系統，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。
EVG ® 610技術數據：EVG610支持多種標準光刻工藝，例如真空，硬，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對準功能。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其非常適合大學和研發應用。
EVG ® 610特征：
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
頂側和底側對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持最/新的UV-LED技術
最小化系統占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
便捷處理和轉換重組
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 610附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻（NIL）
EVG ® 610技術數據：
對準方式
上側對準：≤±0.5 μm
底面要求：≤±2,0 μm
紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對準：≤±2,0 μm
NIL對準：≤±2,0 μm HERCULES光刻機系統：全自動光刻跟/蹤系統，模塊化設計，用于掩模和曝光，集成了預處理和后處理能力。
EVG鍵合機掩模對準系列產品，使用最/先進的工程技術。
用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數決定。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經明確定義且易于控制的曝光光譜是最重要的標準。此外，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產品組合時需要考慮的其他關鍵參數。創新推動了我們的日常業務的發展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架，創造更先進的系統。 可以使用用于壓印光刻的工具，例如紫外光納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。寧夏光刻機
EVG100光刻膠處理系統可以處理多種尺寸的基板，直徑從2寸到300 mm。MEMS光刻機
國統局數據顯示，2019年上半年儀器儀表大行業規模以上企業4927個，營收規模4002億元，營收同比增長7.57%；收入總額為361億元，同比增長2.87%，比主營收入低4.70個百分點；隨著互聯網的逐步發展，為磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發等產品的傳播提供了一個飛速的平臺。讓儀器儀表行業從傳統的銷售模式到以互聯網電子商務為主的營銷方式的轉變，促進了儀器儀表行業與互聯網的結合，推動產業創新發展。在國民經濟運行中，磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】等設備是提高勞動生產率的倍增器，對國民經濟有著巨大的作用和影響力。美國商業部地區技術和標準研究院（NIST）提出的報告稱：美國90年代儀器儀表工業產值只占工業總產值的4%，但它對國民經濟（GNP）的影響面卻達到66%。盡管在我國相關政策的引導和支持下，我國儀器儀表行業得到了飛速發展。但是從銷售整體上看，我國的儀器儀表行業還是落后于國際水平的。重點技術缺乏、高精尖產品嚴重依賴進口、儀器儀表產品同質化嚴重、生產工藝落后、研發能力弱、精度不高等問題的凸顯，為儀器儀表行業的發展帶來了嚴峻的挑戰。MEMS光刻機
岱美儀器技術服務（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位，交通便利，環境優美，是一家其他型企業。岱美儀器技術服務是一家有限責任公司企業，一直“以人為本，服務于社會”的經營理念;“誠守信譽，持續發展”的質量方針。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠滿意為標準；以保持行業優先為目標，提供高品質的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務以創造高品質產品及服務的理念，打造高指標的服務，引導行業的發展。