中國澳門知名光刻機

來源: 發布時間:2020-03-12

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統,模塊化設計,用于掩模和曝光,集成了預處理和后處理能力

■   高產量的晶圓加工

■   最多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   獨立的柜內化學處理

■   支持連續操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有:

手動和自動處理

我們所有的自動化系統還支持手動基片和掩模加載功能,以便進行過程評估。此外,該系統可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協,帶來最/大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,以確保最/佳的工藝能力和產量。Load&Go選項可在自動化系統上提供超快的流程啟動。 可以在EVG105烘烤模塊上執行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。中國澳門知名光刻機

EVG ® 150特征2:

先進且經過現場驗證的機器人具有雙末端執行器功能,可確保連續的高產量

處理厚或超薄,易碎,彎曲或小直徑的晶圓

用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會

EFEM(設備前端模塊)和可選的FSS(FOUP存儲系統)


工藝技術卓/越和開發服務:

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

智能過程控制和數據分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能

并行/排隊任務處理功能

智能處理功能

發生和警報分析

智能維護管理和跟/蹤


寧夏光刻機供應商家研發設備與EVG的核心技術平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發到小規模和大批量生產的整個制造鏈。

IQ Aligner特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量,實現了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經驗

手動基板裝載能力

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性


IQ Aligner附加功能:

紅外對準–透射和/或反射


IQ Aligner技術數據:

楔形補償:全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能:自動對準;大間隙對準;跳動控制對準;動態對準

EVG ® 610特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

頂側和底側對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持最/新的UV-LED技術

最小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

便捷處理和轉換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻(NIL)


EVG ® 610技術數據:

對準方式

上側對準:≤±0.5 μm

底面要求:≤±2,0 μm

紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準:≤±2,0 μm

NIL對準:≤±2,0 μm 在全球范圍內,我們為許多用戶提供了量產型的光刻機系統,并得到了他們的無數好評。

IQ Aligner®NT曝光設定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能:自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)

大間隙對準

跳動控制對準


IQ Aligner®NT系統控制:

操作系統:Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


如果您需要確認準確的產品的信息,請聯系我們。如果需要鍵合機,請看官網信息。 只有接近客戶,才能得知客戶最真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯系的原因之一。中國澳門光刻機美元價格

EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內提供服務。中國澳門知名光刻機

EVG120特征2:

先進且經過現場驗證的機器人具有雙末端執行器功能,可確保連續的高產量;

工藝技術卓/越和開發服務:

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

智能過程控制和數據分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能;

并行/排隊任務處理功能;

智能處理功能;

發生和警報分析;

智能維護管理和跟/蹤;


技術數據:

可用模塊;

旋涂/ OmniSpray ® /開發;

烤/冷;

晶圓處理選項:

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉;

彎曲/翹曲/薄晶圓處理。


中國澳門知名光刻機

岱美儀器技術服務(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿易試驗區加太路39號第五層六十五部位,交通便利,環境優美,是一家其他型企業。岱美儀器技術服務是一家有限責任公司企業,一直“以人為本,服務于社會”的經營理念;“誠守信譽,持續發展”的質量方針。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠滿意為標準;以保持行業優先為目標,提供高品質的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。岱美儀器技術服務以創造高品質產品及服務的理念,打造高指標的服務,引導行業的發展。

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