企業(yè)商機(jī)-納糯三維科技(上海)有限公司
  • 湖北雙光子聚合無掩膜光刻無掩膜激光直寫
    湖北雙光子聚合無掩膜光刻無掩膜激光直寫

    科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新...

    2025-07-17
  • 海南雙光子無掩膜光刻無掩光刻
    海南雙光子無掩膜光刻無掩光刻

    這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D...

    2025-07-17
  • 超高速無掩膜光刻3D光刻
    超高速無掩膜光刻3D光刻

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和...

    2025-07-17
  • 遼寧德國無掩膜光刻3D光刻
    遼寧德國無掩膜光刻3D光刻

    雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicr...

    2025-07-17
  • 湖北科研Nanoscribe微機(jī)械
    湖北科研Nanoscribe微機(jī)械

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

    2025-07-16
  • 北京德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫
    北京德國無掩膜光刻無掩膜激光直寫

    加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨(dú)子公司,是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團(tuán)的一...

    2025-07-16
  • 四川實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe生物工程
    四川實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe生物工程

    德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強(qiáng)了德國高新技術(shù)在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家,超過1500名用戶。大學(xué)中已經(jīng)多所正在使用Nanoscribe3D打印機(jī)。這些大學(xué)包含哈...

    2025-07-16
  • 黑龍江灰度光刻3D光刻
    黑龍江灰度光刻3D光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)...

    2025-07-16
  • 北京2PP無掩膜光刻技術(shù)3D打印
    北京2PP無掩膜光刻技術(shù)3D打印

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和...

    2025-07-16
  • 北京實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe微納機(jī)器人
    北京實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe微納機(jī)器人

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射...

    2025-07-16
  • 湖北德國Nanoscribe微納加工系統(tǒng)
    湖北德國Nanoscribe微納加工系統(tǒng)

    Nanoscribe設(shè)備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納...

    2025-07-16
  • 重慶實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe技術(shù)
    重慶實(shí)驗(yàn)室Nanoscribe技術(shù)

    Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直...

    2025-07-15
  • 廣東德國NanoscribeQuantum X
    廣東德國NanoscribeQuantum X

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射...

    2025-07-15
  • 湖南進(jìn)口無掩膜光刻
    湖南進(jìn)口無掩膜光刻

    Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解...

    2025-07-15
  • 浙江無掩膜光刻3D光刻
    浙江無掩膜光刻3D光刻

    光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測器、光衰減器、光復(fù)...

    2025-07-15
  • 北京無掩膜光刻技術(shù)
    北京無掩膜光刻技術(shù)

    借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來研究細(xì)胞生長、遷移和干細(xì)胞分化。此外,3D微...

    2025-07-15
  • 湖南Nanoscribe中國分公司
    湖南Nanoscribe中國分公司

    QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計(jì)自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...

    2025-07-15
  • 海南雙光子無掩膜光刻微納光刻
    海南雙光子無掩膜光刻微納光刻

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和...

    2025-07-15
  • 工業(yè)級無掩膜光刻設(shè)備
    工業(yè)級無掩膜光刻設(shè)備

    Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是...

    2025-07-15
  • TPP雙光子聚合無掩光刻
    TPP雙光子聚合無掩光刻

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

    2025-07-15
  • 廣東超高速無掩膜光刻PPGT
    廣東超高速無掩膜光刻PPGT

    Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動,并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推...

    2025-07-15
  • 德國2GLNanoscribeQuantum X shape
    德國2GLNanoscribeQuantum X shape

    Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解...

    2025-07-15
  • 進(jìn)口NanoscribePhotonic Professional GT
    進(jìn)口NanoscribePhotonic Professional GT

    德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強(qiáng)了德國高新技術(shù)在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家,超過1500名用戶。大學(xué)中已經(jīng)多所正在使用Nanoscribe3D打印機(jī)。這些大學(xué)包含哈...

    2025-07-15
  • 湖南2GL無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
    湖南2GL無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

    Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和...

    2025-07-15
  • 江蘇超高速Nanoscribe微光學(xué)
    江蘇超高速Nanoscribe微光學(xué)

    由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

    2025-07-15
  • 海南雙光子聚合Nanoscribe微機(jī)械
    海南雙光子聚合Nanoscribe微機(jī)械

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點(diǎn)講解...

    2025-07-15
  • 上海雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻
    上海雙光子聚合無掩膜光刻微納光刻

    Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù)...

    2025-07-15
  • 高精度無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)
    高精度無掩膜光刻三維微納米加工系統(tǒng)

    光學(xué)和光電組件的小型化對于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件...

    2025-07-15
  • 四川2GLNanoscribeMEMS
    四川2GLNanoscribeMEMS

    QuantumXshape平臺系統(tǒng)共有四套打印套件,為您提供不同規(guī)模制作可能性:從小特征尺寸(SF),中特征尺寸(MF)到大特征尺寸(LF)和如今的超大特征尺寸(XLF)。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場直徑,為我們提供了更多新應(yīng)用可...

    2025-07-15
  • 四川德國Nanoscribe微納機(jī)器人
    四川德國Nanoscribe微納機(jī)器人

    對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們設(shè)計(jì)了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個挑戰(zhàn),特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對可能傾斜...

    2025-07-15
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