Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射...

Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納...

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直...

光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit，PIC)與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和...

Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新領域的研究和發展，并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和...

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商，擁有多項專項技術...

對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰。首先，他們設計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構，是對可能傾斜...

德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技（上海）有限公司，加強了德國高新技術在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家，超過1500名用戶。大學中已經多所正在使用Nanoscribe3D打印機。這些大學包含哈...

雙光子聚合（2PP）是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統QuantumXshape具有下列優異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打印；其次制作高達50毫米的目標結構，適...

Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產的帶領者，一直致力于推動諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射...

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相...

Nanoscribe公司成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，秉持著卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景的德國卡爾蔡司公司的支持，經過十幾年的不斷研究和成長，已然成為微納米生產的帶領者，一直致力于推動諸如力學超材料，微納機器人，再生醫學工程，微光學等創新...

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業...

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創建的工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創建工業級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統Quant...

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射...

QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL?)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受...

拉曼光譜是針對于有機組織和生物組織的一種強大的分析技術，可以根據樣品的個別光譜指紋對其進行定性，如細菌。拉曼散射的固有弱點可以通過金屬化的微納結構表面得到加強，從而創造出與樣品相互作用的信號熱點。在他們的研究中，科學家們使用雙光子聚合技術（2PP）在光纖的表面...

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL?)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscrib...

來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術...

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射...