Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。...
科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新...
這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業手板,這款產品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應用領域,極大地節省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...
雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的,其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicr...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...
加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅和市場領導我們是您在微加工系統、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司,是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司,并于2021年6月成為BICO集團的一...
德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強了德國高新技術在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家,超過1500名用戶。大學中已經多所正在使用Nanoscribe3D打印機。這些大學包含哈...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射...
Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分流體光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可低至200納...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射...
Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射...
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專業人才,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解...
光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復...
借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微...
QuantumXshape技術特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業驗證的晶圓級批量生產;200個標準結構的通宵產量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...
Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。來自德國亞琛工業大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...
Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,諸如力學超材料,微納機器人,再生醫學工程,微光學等創新領域的研究和發展,并提供優化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強了全球銷售活動,并完善了亞太地區客戶服務范圍。此次推...
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專業人才,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解...
德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強了德國高新技術在中國的銷售推廣。Nanoscribe客戶遍布30個國家,超過1500名用戶。大學中已經多所正在使用Nanoscribe3D打印機。這些大學包含哈...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...
由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...
Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解...
Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統生產商,擁有多項專項技術...